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標題: 新高端顯卡福音：聯電率先完成高性能40nm工藝 [打印本頁]

作者: franco80k 時間: 2009-4-11 06:37 PM 標題: 新高端顯卡福音：聯電率先完成高性能40nm工藝

http://news.mydrivers.com/1/132/132138.htm

在邁入40nm時代後，GPU製造工藝在歷史上第一次超過了CPU，不過由於新工藝研發成本高昂，台積電和聯電的實力又相對有限，其實40nm工藝其實一直不夠成熟，無法滿足高性能GPU核心的需要，也直接制約了AMD、NVIDIA新款高端顯卡的進度。
今天，聯電宣佈已率先開始批量出貨基於高性能40nm工藝的消費集成電路，比首家投產40nm工藝的台積電領先了一步。
聯電稱，新工藝綜合了三閘級氧化層(TGO)、12個金屬層、Cu/Low-K工藝，相比上代65nm工藝可將芯片集成度提高一倍，同時功耗降低65％，而且生產週期和產品良率都已經達到實用水平，可以用來製造大尺寸的可編程邏輯芯片。
聯電的高性能45/40nm工藝使用了沉浸式光刻技術，還有超淺結、遷移率增強、Ultra Low-K電介質等措施，以求實現最大程度的功耗和性能優化，客戶還可以根據產品需要選擇不同的電壓和晶體管參數。
Xilinx公司上月底宣佈，基於聯電40nm工藝的Virtex-6 FPGA已開始批量出貨，最多可節約75％的成本。

作者: sam7894604 時間: 2009-4-11 09:06 PM

感謝大大分享新資訊!!

作者: ecs01630 時間: 2009-4-12 10:42 AM

現在的科技進步神速，多虧了大大提供資訊，不但新穎而且正確，解說教學又清楚，希望大大能在接再厲，給我們這些鄉民更多更好的新資訊，謝謝！

作者: shia7272 時間: 2009-4-12 11:33 AM

可以降低功耗65%耶@@~
這表示顯卡的用電量可以大幅降低嘛?
如果可以的話也表示廢熱會減少囉@@!
高階顯卡的耗電一直是很討厭的問題說@@
感謝分享資訊^^~

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